Electrochromic behavior of W xSi yO z thin films prepared by reactive magnetron sputtering at normal and glancing angles

  1. Gil-Rostra, J.
  2. Cano, M.
  3. Pedrosa, J.M.
  4. Ferrer, F.J.
  5. García-García, F.
  6. Yubero, F.
  7. González-Elipe, A.R.
Revista:
ACS Applied Materials and Interfaces

ISSN: 1944-8244,  1944-8252

Año de publicación: 2012

Volumen: 4

Número: 2

Páginas: 628-638

Tipo: Artículo

DOI: 10.1021/AM2014629 GOOGLE SCHOLAR
Fuente de los datos: Scopus