Real-Time Study of CVD Growth of Silicon Oxide on Rutile TiO2(110) Using Tetraethyl Orthosilicate

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Zeitschrift:
Journal of Physical Chemistry C

ISSN: 1932-7455,  1932-7447

Datum der Publikation: 2015

Ausgabe: 119

Nummer: 33

Seiten: 19149-19161

Art: Artikel

DOI: 10.1021/ACS.JPCC.5B04985 GOOGLE SCHOLAR lock_openOpen Access editor
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