Real-Time Study of CVD Growth of Silicon Oxide on Rutile TiO2(110) Using Tetraethyl Orthosilicate

  1. Chaudhary, S.
  2. Head, A.R.
  3. Sánchez-De-Armas, R.
  4. Tissot, H.
  5. Olivieri, G.
  6. Bournel, F.
  7. Montelius, L.
  8. Ye, L.
  9. Rochet, F.
  10. Gallet, J.-J.
  11. Brena, B.
  12. Schnadt, J.
Aldizkaria:
Journal of Physical Chemistry C

ISSN: 1932-7455,  1932-7447

Argitalpen urtea: 2015

Alea: 119

Zenbakia: 33

Orrialdeak: 19149-19161

Mota: Artikulua

DOI: 10.1021/ACS.JPCC.5B04985 GOOGLE SCHOLAR lock_openSarbide irekia editor
Datuen iturria: Scopus