Real-Time Study of CVD Growth of Silicon Oxide on Rutile TiO2(110) Using Tetraethyl Orthosilicate

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Revista:
Journal of Physical Chemistry C

ISSN: 1932-7455,  1932-7447

Año de publicación: 2015

Volumen: 119

Número: 33

Páginas: 19149-19161

Tipo: Artículo

DOI: 10.1021/ACS.JPCC.5B04985 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso abierto editor
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