Electrochemical deposition of copper on n-Si/TiN

  1. Oskam, G.
  2. Vereecken, P.M.
  3. Searson, P.C.
Aldizkaria:
Journal of the Electrochemical Society

ISSN: 0013-4651

Argitalpen urtea: 1999

Alea: 146

Zenbakia: 4

Orrialdeak: 1436-1441

Mota: Artikulua

DOI: 10.1149/1.1391782 GOOGLE SCHOLAR